Câu hỏi: Những bề mặt thấm ướt tốt (ưa lỏng) khi:

A. Cos θ < 0 

B. Cos θ = 0

C. Cos θ > 0 

D. Cos θ =1

Câu 1: Phương pháp phân tán trộn pha rắn với chất hoạt động bề mặt với mục đích:

A. Làm pha rắn tan rã

B. Làm thay đổi cấu trúc phân tử pha rắn

C. Làm yếu lực liên kết phân tử pha rắn 

D. Câu a và câu b đúng

Câu 2:  Sức căng bề mặt có xu hướng:

A. Thu nhỏ diện tích bề mặt

B. Tăng diện tích bề mặt

C. Thu nhỏ bặc tăng diện tích tủy bàn chất của chất lỏng

D. Không làm thay đổi diện tích bề mặt.

Câu 3: Nếu Serblion meaolaurate có HLB = 6.6 thì ứng dụng của nó là:

A. Chống tạo bọt 

B. Nhũ hóa N/D

C. Nhũ hóa D/N 

D. Gây thấm

Câu 4: Khi các tiểu phân hạt keo hấp thụ điện tích, thứ tự các lớp từ ngoài vào trong: 

A. Nhân, lớp khuếch tán, lớp ion đối, lớp tạo hiệu thế

B. Nhân, lớp ion đối, lớp tạo hiệu thế, lớp khuếch tán

C. Lớp khuếch tán, lớp ion đối, lớp tạo hiệu thế, nhân

D. Lớp tạo hiệu thế, lớp khuếch tán, lớp ion đối, nhân

Câu 5: Phương trình động học của phản ứng bậc 1:

A. \(\ln [A] = - \ln k.t\frac{1}{{{\rm{[}}{A_o}{\rm{]}}}}\)

B. \(\lg [A] = - k.t + \lg [{A_o}{\rm{]}}\)

C. \(\ln [A] = \frac{{kt}}{{2.303}} + \lg [{A_o}{\rm{]}}\)

D. \(\ln [A] = \frac{{kt}}{{0.693}} + \lg [{A_o}{\rm{]}}\)

Câu 6: Khả năng gây keo tụ của các ion NH4+, Na+, Cu2+, Al3+, giảm dần theo thứ tự:

A. Al3+ > Cu2+ > Na+ > NH4+

B. Cu2+ > Al3+ > NH4+ > Na+

C. Al3+ > NH4+ > Cu2+ > Na+

D. Al3+> Cu2+ > NH4+ > Na