Câu hỏi: 20Cr2Ni4A dùng làm các chi tiết:

A. Tiết diện nhỏ, hình dạng đơn giản

B. Kích thước lớn, hình dáng phức tạp

C. Hình dạng phức tạp, kích thước trung bình

D. Hình dạng tương đối phức tạp, kích thước tương đối lớn

Câu 1: Phương pháp tôi nào ít gây ra ứng suất nhiệt?

A. Tôi trong một môi trường

B. Tôi phân cấp

C. Tôi đẳng nhiệt 

D. Tôi trong hai môi trường

Câu 2: Mục đích của ủ thấp là:

A. Khử ứng suất 

B. Tăng độ dẻo

C. Làm nhỏ hạt 

D. Giảm độ cứng

Câu 3: Để nâng cao tính chống ăn mòn điện hóa cần thấm vào bề mặt thép nguyên tố nào?

A. Cr

B. Sn 

C. N 

D. C

Câu 4: Sắp xếp theo thứ tự độ dẻo giảm dần:

A. \(F{e_\alpha },F{e_\gamma },F{e_\delta }\)

B. \(F{e_\delta },F{e_\gamma },F{e_\alpha }\)

C. \(F{e_\gamma },F{e_\alpha },F{e_\delta }\)

D. \(F{e_\gamma },F{e_\delta },F{e_\alpha }\)

Câu 5: Chọn vật liệu thấm các bon tốt nhất?

A. C20 

B. 18CrMnTi 

C. 20Cr 

D. 20CrNi 

Câu 6: Để tăng hàm lượng các bon liên kết trong gang phải ủ ở khoảng nhiệt độ nào?

A. \(800 \div {820^o}C\)

B. \(850 \div {870^o}C\)

C. \(830 \div {850^o}C\)

D. \(750 \div {770^o}C\)